创造力双因素遗传结构及精神疾病相关性预印本研究

本事件聚焦一项于2026年9月30日发布在bioRxiv Genomics的预印本研究。该研究对六项创造力相关全基因组关联研究（GWAS）开展基因组结构方程建模，识别出两个潜在遗传因子：一般因子与艺术因子。一般因子对应22个全基因组显著位点（其中9个为新位点），艺术因子对应13个全基因组显著位点。研究发现，一般因子与受教育程度呈近完全遗传相关（rg = 0.96），主要反映认知与教育过程；艺术因子与受教育程度的遗传相关性较弱（rg = 0.11），却与多种精神疾病呈遗传正相关，并具有独特的生物学富集模式。该研究以预印本形式发布，尚未经过同行评审，结论有待进一步验证。

由模型根据报道生成 · 6 小时前更新

还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。